最早合成HCl氣體的方法
隨著我國工業生產中對于氯化氫的純度要求越來越高,合成法制備氯化氫越來越不能滿足工業需求。這也促使氯化氫生產企業制備氯化氫的方法,由合成法向脫吸法等所得氯化氫氣體濃度較高的制備方法發展。
用氯和氫在合成爐中進行燃燒反應生成氯化氫氣體是八十年代初為適應我國電子工業的迅速發展而提出的,在技術上較為先進,由合成爐出來的氯化氫氣體經常溫、低溫干燥和吸附凈化,在低溫、低壓下冷凝,排除不凝氣體雜質,以液態裝瓶。氯、氫合成中,氫過量5%左右,氯化氫氣體中含氫高,以間歇精餾裝置除氫。此外,原料氫是經鈀膜擴散提純,生產規模受到一定限制。
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