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行業資訊
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鹽酸脫吸法制高純氯化氫的廣泛應用
高純氯化氫是集成電路生產中硅片蝕刻，鈍化和外延等工藝的重要材料，也可用于金屬冶煉，光導通訊和科學研究等領域。隨著大規模集成電路的發展，對氯化氫純度的要求越來越高，對其中雜質的含量要求越來越苛刻，尤其要求嚴格限制碳氫化合物和碳氧化合物的含量，以防止硅片加工過程中c的形成。國內外對于制備高純氯化氫的方法有很多。今天跟大家簡單介紹一下其中的鹽酸脫析法的工藝流程：
鹽酸脫析法。將濃鹽酸置于脫析塔中加熱脫析制氯化氫氣體。鹽酸脫吸法制高純氯化氫廣泛應用于PVC、氯丁二烯和高純鹽酸等的生產中。此種方法生產的氯化氫氣體純度在99．9％ (質量分數)以上。
其工藝流程為：將濃鹽酸貯槽之濃酸用濃酸泵打至脫吸塔，脫吸塔下部連接再沸器，濃酸自塔頂噴淋而下，與來自再沸器的稀酸蒸氣逆流傳質傳熱，使氯化氫脫吸。所得之恒沸酸一部分補充再沸器的循環，一部分則經板式冷卻器后流入稀酸貯槽。由脫吸塔出來的含水蒸氣氯化氫氣體，進人石墨列管冷卻器用水冷卻后經過旋風分離器，分離出夾帶酸霧。然后，經過一系列的常溫、低溫干燥、吸附除水及二氧化碳，壓縮至1．2MPa，進行低溫精餾，再經低溫吸附除氮后壓縮至4．2MPa，裝瓶。
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